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全自动涂胶显影机

时间：2025-04-13 16:30:59 来源：互联网作者：

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3-涂胶显影工艺、设备、机会涂胶/显影机作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固更多内容请查看https://zhuanlan.zhihu.com/p/663028945

ximisemi.com全自动涂胶显影机- 芯米（厦门）半导体设备有限公司Coater Unit 涂胶单元 1、PR类型：正胶/ 负胶；2、光刻胶喷头 2 ~ 4 个； 3、EBR ( Edge Bead Remover )； 4、马达旋转速度 Max. 6,000rpm； 5、高精度定量泵浦≦0.1cc ( 100cp以下)更多内容请查看http://www.ximisemi.com/productinfo/1191442.html

alltekusa.comC&D P9000 匀胶显影 HMDS 烘烤冷却全自动系统它可以根据需要自由配置为涂胶机、显影机、气相沉积模块、加热台、冷却台或其他各种组合，适用于各种光刻胶旋涂和光敏聚合物应用。 • Chemical cabinets • Syringe dispense • Remote chiller •更多内容请查看https://alltekusa.com/product/cd-p9000/

化工仪器网KS-S150 星型全自动涂胶显影机 KS-S150星型全自动涂胶显影机是由沈阳芯源微电子设备股份有限公司研发的匀胶显影设备，用于LED-PSS工艺的涂胶显影制程及化合物半导体的涂胶显影等制程。更多内容请查看https://www.chem17.com/product/detail/38645906.html

致力于半导体、微 EVG 120是一款全自动晶圆涂胶显影设备，可用于喷胶、旋涂、烘烤、冷却和显影，适用于小规模自动化生产。主要特点及参数： ·最大可适用于8寸（200mm）晶圆更多内容请查看http://www.astchina.com/product/63.html

致力于半导体、微 EVG 150是一款大型全自动晶圆涂胶显影量产设备，可用于喷胶、旋涂、烘烤、冷却和显影，适合大规模自动化生产。主要特点及参数： ·最大可适用于12寸（300mm）晶圆vhdns更多内容请查看http://www.astchina.com/product/62.html

ximisemi.com全自动 Coater&Developer（涂布显影设备)- 芯米（厦门 XM-D100是一款 2~4吋全自动 Developer 显影机 XM-D200是一款 6~8吋全自动 Developer 显影机设备特点模块化设计, 可依客户客制化工艺生产需求为导向，从设计开发、机台组装、测试、机台安装到售后服务。 Through-Put 产能每小时60片精更多内容请查看http://www.ximisemi.com/productinfo/726283.html

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